?脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD)激光加熱-最高＞1100°C
激光加熱是通過(guò)一個(gè)聚焦的紅外激光束輻照樣品托或是基片的背面，以實(shí)現(xiàn)快速加熱。
該系統(tǒng)包括三部分：第一部分是樣品托，主要用于裝載基片，可以通過(guò)進(jìn)樣室傳遞。第二部分是樣品架，主要用于固定樣品托（該樣品架同樣可以兼容電阻加熱器）。第三部分是激光器以及光學(xué)組件，采用高功率的二極管激光器，激光束通過(guò)光學(xué)組件聚焦到樣品托的背部。
該加熱器主要優(yōu)點(diǎn)是：加熱溫度高，可快速升溫、降溫，可承受更高的氧分壓。同時(shí)它是一種最“清潔”的加熱方式，可保證良好的真空環(huán)境。
您也可以查看電阻式加熱器和輻射式加熱器。
